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Mosfet Go 과정정보

반도체

강의 맛보기

Mosfet Go

  • 학습기간 30일
  • 학습분량 40차시
600,000 400,000
이런 분이라면 강추
  • 반도체 분야 취업을 원하는 취업 준비생

    소자의 기본원리부터 팹공정 실습의 이론 선행 학습.
    다 마치면 연세대 명의의 수료증까지 척척.

  • 반도체 팹 경험이 없는 직장인

    반도체 분야에 종사하나 반도체 팹을 경험해 보신 분은 별로 없습니다. 하지만 모스펫고라면 가능합니다.

  • 반알못 비전공자 분들

    IT 핵심기술인 반도체 분야에 대한 안목을 갖고 미래를 대비하기 원하는 직장인

왜? 반도체 공부는 모스펫고죠?
  • 국내 최고의 강사진
    • 본 차시 강사

      오훈정

      • 소속
        • 연세대학교 BIT마이크로팹연구소 연구교수
      • 경력
        • 연세대학교 BIT마이크로팹연구소 연구교수
        • 싱가포르 국립대 전자컴퓨터공학과 리서치펠로우
        • 하이닉스 메모리연구소 공정엔지니어
    • 오리엔테이션 강사

      송복남

      • 경력
        • 윙코 대표이사
        • 하이닉스 Memory R&D 연구소
        • SK-Hynix Flash memory cell, device, product 개발
        • eNVM technology(process/cell/design/test),
        • IP design and service
        • (주)엑셀반도체 설립(Flash memory fabless) 및 대표이사
  • 10분내외의 쇼츠형 반도체 예능
      • 새로운 토크쇼 형식강사&MC 예능포맷 강의!
        재미와 학습효과 UP!

      • 현장탐방생생한 실습현장 그대로,
        학습자의 몰입감 상승!

      • 눈높이 심화강의반도체에 쉽게 접근하는
        핵심교육 커리큘럼!

업계 리뷰

S 반도체 현업자 리뷰

이제 다 들었고 전반적으로 강의가 잘 만들어진 느낌입니다.

반도체를 학교에서 이론으로만, 공식으로만 접했던 학생들에게 아주 도움이 될것 같아요.
마치 미국유학시절에 들었던 실습과정과 비슷하고요.

미국유학 경험을 얘기하면, 당시는 하나하나가 새롭고, 만져본다는 신기함이 있었는데, 마지막편에 언급한 5주교육처럼, 한학기교육이였으니.

그런데 online 강의는 찐 실습처럼 이런 신기함을 보기가 어려울듯하네요.
이것을 교수님께서 입담으로 풀어가셨는데, 그래도 최근에 반도체에 대한 궁금증이 크고, 실습과정을 다 받을 수 없을테니 메리트는 있는듯.

다시 얘기하지만 전반적인 구성은 좋네요.
특히 시작과 끝을 review로 시작하고 마무리 하면서, remind 시켜주는 방식도 학생들은 싫어하지만, 머리에 남기는데는 좋은 방법이지요.

가장 효과적으로 공부하는 방법을 알려줘~

  • 1차시

    오리엔테이션 및 팹 투어(강의시간 46:19)

  • 2차시

    Gate Stack Process(강의시간 44:01)

  • 3차시

    Photo Process(강의시간 43:05)

  • 4차시

    Etch Process(강의시간 55:40)

  • 5차시

    S/D Implant Process(강의시간 52:15)

  • 6차시

    S/D Activation Process(강의시간 46:18)

  • 7차시

    Metal Mask & Deposition process(강의시간 49:04)

  • 8차시

    Metal lift-off Mask & FGA(강의시간 47:20)

  • 9차시

    Probe Station(강의시간 47:30)

  • 10차시

    마무리(강의시간 46:13)

  • 학습진행순서
      • 학습홈페이지 입장
      • MY 접속
      • 학습중인 과정 접속
      • 순차학습
      • 진도율100% 수강
      • 교육수료
강의목차
차시 강의명
1차시 오리엔테이션 및 팹 투어 (1) - 반도체 소자 개념 잡기
2차시 오리엔테이션 및 팹 투어 (2) - MOS Transister 동작 원리
3차시 오리엔테이션 및 팹 투어 (3) - 모스펫 GO NMOSFET process flow
4차시 오리엔테이션 및 팹 투어 (4) - 팹 투어
5차시 Gate Stack Process (1)
6차시 Gate Stack Process (2) - RCA Cleaning
7차시 Gate Stack Process (3) - Gate Oxidation
8차시 Gate Stack Process (4) - Poly-Si LPCVD Process
9차시 Probe Station (1)
10차시 Photo Process (2) - PR Coating & Soft Bake
11차시 Photo Process (3) - Mask Aligner
12차시 Photo Process (4) - Develop
13차시 Etch Process (1)
14차시 Etch Process (2) - ICP RIE
15차시 Etch Process (3) - PR Strip & Cleaning
16차시 Etch Process (4) - Inspection
17차시 S/D Implant Process (1)
18차시 S/D Implant Process (2) - Capping Oxide Deposition
19차시 S/D Implant Process (3) - Ellipsometer
20차시 S/D Implant Process (4) - Ion Implantation
21차시 S/D Activation Process (1)
22차시 S/D Activation Process (2) - RTP
23차시 S/D Activation Process (3) - Capping Oxide Removal
24차시 S/D Activation Process (4) - 4-point Probe
25차시 Metal Mask & Deposition process (1)
26차시 Metal Mask & Deposition process (2) - Metal Mask Align to Gate
27차시 Metal Mask & Deposition process (3) - Metal Deposition
28차시 Metal Mask & Deposition process (4) - Metal Measurement
29차시 Metal lift-off Mask & FGA (1)
30차시 Metal lift-off Mask & FGA (2) - Metal Lift-off
31차시 Metal lift-off Mask & FGA (3) - Forming Gas Anneal
32차시 Metal lift-off Mask & FGA (4) - Transmission Electron Microscope
33차시 Photo Process (1)
34차시 Probe Station (2) - Probe Station
35차시 Probe Station (3) - MOSCAP CV and IV
36차시 Probe Station (4) - MOSFET Id-Vg and Id-Vd
37차시 마무리 (1) - 실습 후에 보이는 반도체소자 제조공정
38차시 마무리 (2) - 실습 후에 보이는 메모리반도체소자 제조공정
39차시 마무리 (3) - 공정 불량 시 예상되는 소자 문제
40차시 마무리 (4)