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Mosfet Go 과정정보

반도체

강의 맛보기

Mosfet Go

  • 학습기간 30일
  • 학습분량 40차시
600,000 400,000
이런 분이라면 강추
  • 반도체 분야 취업을 원하는 취업 준비생

    소자의 기본원리부터 팹공정 실습의 이론 선행 학습.
    다 마치면 연세대 명의의 수료증까지 척척.

  • 반도체 팹 경험이 없는 직장인

    반도체 분야에 종사하나 반도체 팹을 경험해 보신 분은 별로 없습니다. 하지만 모스펫고라면 가능합니다.

  • 반알못 비전공자 분들

    IT 핵심기술인 반도체 분야에 대한 안목을 갖고 미래를 대비하기 원하는 직장인

왜? 반도체 공부는 모스펫고죠?
  • 국내 최고의 강사진
    • 본 차시 강사

      오훈정

      • 소속
        • 연세대학교 BIT마이크로팹연구소 연구교수
      • 경력
        • 연세대학교 BIT마이크로팹연구소 연구교수
        • 싱가포르 국립대 전자컴퓨터공학과 리서치펠로우
        • 하이닉스 메모리연구소 공정엔지니어
    • 오리엔테이션 강사

      BRIAN

      • 경력
        • 윙코 대표이사
        • 하이닉스 Memory R&D 연구소
        • SK-Hynix Flash memory cell, device, product 개발
        • eNVM technology(process/cell/design/test),
        • IP design and service
        • (주)엑셀반도체 설립(Flash memory fabless) 및 대표이사
  • 10분 내외의 쇼츠형 반도체 예능
      • 새로운 토크쇼 형식강사&MC 예능포맷 강의!
        재미와 학습효과 UP!

      • 현장탐방생생한 실습현장 그대로,
        학습자의 몰입감 상승!

      • 눈높이 심화강의반도체에 쉽게 접근하는
        핵심교육 커리큘럼!

업계 리뷰

S 반도체 현업자 리뷰

전반적으로 강의가 굉장히 잘 만들어졌습니다.

반도체를 학교에서 이론으로만, 공식으로만 접했던 학생들에게 아주 도움이 될 것 같아요.
마치 미국 유학시절에 들었던 실습과정과 비슷하고요.

미국 유학 경험을 얘기하면, 당시는 하나하나가 새롭고, 만져본다는 신기함이 있었는데, 마지막 편에 언급한 5주 교육처럼, 한 학기 교육이었으니.

그런데 online 강의는 찐 실습처럼 이런 신기함을 보기가 어려울듯하네요.
이것을 교수님께서 입담으로 풀어가셨는데, 그래도 최근에 반도체에 대한 궁금증이 크고, 실습과정을 다 받을 수 없을 테니 메리트가 있어요.

다시 얘기하지만 전반적인 구성이 매우 좋네요.
특히 시작과 끝을 review로 시작하고 마무리하면서, remind 시켜주는 방식도 머리에 남기는데 좋은 방법이지요.

가장 효과적으로 공부하는 방법을 알려줘~

  • 1차시

    오리엔테이션 및 팹 투어(강의시간 46:19)

  • 2차시

    Gate Stack Process(강의시간 44:01)

  • 3차시

    Photo Process(강의시간 43:05)

  • 4차시

    Etch Process(강의시간 55:40)

  • 5차시

    S/D Implant Process(강의시간 52:15)

  • 6차시

    S/D Activation Process(강의시간 46:18)

  • 7차시

    Metal Mask & Deposition process(강의시간 49:04)

  • 8차시

    Metal lift-off Mask & FGA(강의시간 47:20)

  • 9차시

    Probe Station(강의시간 47:30)

  • 10차시

    마무리(강의시간 46:13)

  • 학습진행순서
      • 학습홈페이지 입장
      • MY 접속
      • 학습중인 과정 접속
      • 순차학습
      • 진도율100% 수강
      • 교육수료
강의목차
차시 강의명
1차시 오리엔테이션 및 팹 투어 (1) - 반도체 소자 개념 잡기
2차시 오리엔테이션 및 팹 투어 (2) - MOS Transister 동작 원리
3차시 오리엔테이션 및 팹 투어 (3) - 모스펫 GO NMOSFET process flow
4차시 오리엔테이션 및 팹 투어 (4) - 팹 투어
5차시 Gate Stack Process (1)
6차시 Gate Stack Process (2) - RCA Cleaning
7차시 Gate Stack Process (3) - Gate Oxidation
8차시 Gate Stack Process (4) - Poly-Si LPCVD Process
9차시 Probe Station (1)
10차시 Photo Process (2) - PR Coating & Soft Bake
11차시 Photo Process (3) - Mask Aligner
12차시 Photo Process (4) - Develop
13차시 Etch Process (1)
14차시 Etch Process (2) - ICP RIE
15차시 Etch Process (3) - PR Strip & Cleaning
16차시 Etch Process (4) - Inspection
17차시 S/D Implant Process (1)
18차시 S/D Implant Process (2) - Capping Oxide Deposition
19차시 S/D Implant Process (3) - Ellipsometer
20차시 S/D Implant Process (4) - Ion Implantation
21차시 S/D Activation Process (1)
22차시 S/D Activation Process (2) - RTP
23차시 S/D Activation Process (3) - Capping Oxide Removal
24차시 S/D Activation Process (4) - 4-point Probe
25차시 Metal Mask & Deposition process (1)
26차시 Metal Mask & Deposition process (2) - Metal Mask Align to Gate
27차시 Metal Mask & Deposition process (3) - Metal Deposition
28차시 Metal Mask & Deposition process (4) - Metal Measurement
29차시 Metal lift-off Mask & FGA (1)
30차시 Metal lift-off Mask & FGA (2) - Metal Lift-off
31차시 Metal lift-off Mask & FGA (3) - Forming Gas Anneal
32차시 Metal lift-off Mask & FGA (4) - Transmission Electron Microscope
33차시 Photo Process (1)
34차시 Probe Station (2) - Probe Station
35차시 Probe Station (3) - MOSCAP CV and IV
36차시 Probe Station (4) - MOSFET Id-Vg and Id-Vd
37차시 마무리 (1) - 실습 후에 보이는 반도체소자 제조공정
38차시 마무리 (2) - 실습 후에 보이는 메모리반도체소자 제조공정
39차시 마무리 (3) - 공정 불량 시 예상되는 소자 문제
40차시 마무리 (4)